關于熱處理膜化
此外，通過在具有上述組成的軟磁合金上在預定的300°C至600°C的溫度下進行退火，虹膜可能會顯著增加合金的飽和磁通密度，或者調(diào)節(jié)矯頑力的值，并且在保持飽和磁通密度處于較好的同時，保持其比電阻。因此，通過適當設定退火溫度，可以得到具有高飽和磁通密度，根據(jù)用途適當?shù)某C頑力和電阻率的軟磁性合金。此外，通過選擇根據(jù)本發(fā)明的軟磁性合金的熱處理條件，可以獲得400?1×105的高電阻率，因此當用于構造磁性元件時，軟磁性根據(jù)本發(fā)明的合金能夠在高頻范圍內(nèi)渦流損耗，從而提供一種渦流損耗小的磁性元件。此外，通過在基板上形成平面線圈并用緣層覆蓋該線圈，并且提供具有如上所述組成的軟磁合金的磁性膜，以覆蓋平面線圈和緣層以構成諸如電感器的平面磁性元件，可以施加矯頑力低，飽和磁通密度高且對磁性元素的比電阻高的優(yōu)良軟磁合金，從而提供了好的磁芯。輕巧的新型磁性元件。因此，可以提供小且輕的平面磁性元件。
上一篇：什么是電感器
下一篇：熱處理對軟磁性能的優(yōu)化
