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飽和磁通量的電阻率

Fe--Sm--O合金膜和Fe--Ho--O合金膜檢查了它們的電阻率對Fe含量。

測定在400℃的溫度下進(jìn)行了退火的這些合金膜的電阻。測量結(jié)果示于圖2中。 3.在圖。在圖3中,F(xiàn)e-Sm-O合金膜用(-。小圓圈-。小圓圈-)表示,F(xiàn)e-Ho-O型合金膜用(-。實心-。)表示。圓圈-。)。對于兩種合金膜,隨著Fe含量的減少,電阻率均增加。

在旋轉(zhuǎn)磁場中于400℃的溫度下對具有Fed Hfe Of組成的合金膜進(jìn)行退火6小時,以檢查其飽和磁通密度和電阻率對Hf含量。在所檢查的Fed Hfe的合金膜中,Hf含量變化,F(xiàn)e含量保持在45.6原子%以上,O含量在33.5至36.9原子%的范圍內(nèi)。測量結(jié)果示于圖2和3中。 4和5。

Hf含量的增加導(dǎo)致飽和磁通密度的減少。

另外,通過增加Hf含量,電阻率增加。此外,在熱處理之前,檢查了具有Fed Hfe Of組成的這些合金膜的飽和磁通密度和不同組成比下的電阻率。測量結(jié)果示于圖2中。 6.在圖。在圖6中,指示組成比的點(diǎn)(。)上方的值是電阻率(μΩ.cm),下面給出的值是飽和磁通密度(T)。

展示出了在磁場中經(jīng)過熱處理的軟磁合金的矯頑力和磁導(dǎo)率,以及飽和磁通密度和比電阻。

軟磁合金


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